供應科研高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材(Ir) Iridium 銥靶銥板銥片材料和背板綁定服務

產 品 詳 情

隨著靶材在磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等產業(yè)的發(fā)展，我們加大在稀貴金屬靶材研發(fā)和制備方面的投入力度，通過原料控制、真空感應熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結、熱等靜壓、放電等離子體燒結等不同工藝, 并采用嚴格的質量控制過程，我們能夠制備多種靶材并能一直保持著批量供貨。

另外我們?yōu)榭蛻籼峁┿~背板與銥靶材的綁定服務技術（Bonding），由純銦作為中間的焊接材料使用銅底板與靶材緊密的結合，有利于靶材表面溫度的快速散掉，提高靶材的使用率。

銥濺射靶材Iridium (Ir)

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注：具體尺寸請聯系銷售。

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銥靶材（Ir）Iridium

一：高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材（Ir），即銥靶，作為一種卓越的高科技材料，以其獨特的物理和化學性質，在多個行業(yè)中展現出無可比擬的應用優(yōu)勢。銥靶材以其高純度著稱，通常純度可達99.99%甚至更高，這意味著它幾乎不含有任何雜質，從而確保了電流傳遞的高效性和穩(wěn)定性。這種高純度特性使得銥靶材在電子束蒸發(fā)、濺射鍍膜等高科技領域成為不可或缺的關鍵材料。

我司深耕靶材領域十年，專注研發(fā)與生產，鑄就行業(yè)精品。所生產單材質靶材如下：

二、特性概述：

1、在物理性質方面，銥靶材展現出極高的熔點，高達2454℃，遠超大多數金屬。這一特性使得銥靶材在高溫環(huán)境下仍能保持優(yōu)良的物理和化學穩(wěn)定性，成為許多極端條件下工作的理想選擇。此外，銥靶材的密度達到22.56 g/cm3，具有較高的抗拉強度和硬度，進一步增強了其在各種應用中的穩(wěn)定性和耐久性。

2、在導熱性能方面，銥靶材同樣表現出色。其高效的熱量傳遞能力和出色的熱穩(wěn)定性，使得在高溫條件下，銥靶材能夠保持較低的熱阻，確保熱量快速而均勻地傳遞，有效防止了熱量的積累和散失。這一特性在電子、航空、核能等領域的應用中尤為關鍵，為設備的穩(wěn)定運行提供了有力保障。

三、行業(yè)應用優(yōu)勢：

銥靶材在行業(yè)中的應用優(yōu)勢顯著。在科研領域，銥靶材被廣泛應用于制作科學儀器、熱電偶、電阻線等，其高純度和穩(wěn)定的物理性能為科研實驗提供了高質量的薄膜材料。在燃料電池和光伏器件領域，銥靶材的優(yōu)良導電性和耐腐蝕性使其成為這些領域的理想材料，有效提升了設備的性能和壽命。此外，銥靶材還廣泛應用于高溫裝置、觸點材料等工業(yè)領域，其高熔點和耐腐蝕特性使得在極端工作條件下仍能保持穩(wěn)定的性能。

總的來說，高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材以其高純度、高熔點、優(yōu)異的導熱性能和穩(wěn)定的化學性質，在多個行業(yè)中展現出廣泛的應用前景和不可替代的優(yōu)勢。隨著科技的不斷發(fā)展，銥靶材的應用領域還將不斷拓展，為更多高科技產品的研發(fā)和生產提供有力支持。