磁控濺射科研高純銀（Ag)鍍膜靶材及銀合金管、絲材、顆粒，銀板,PVD鍍膜材料以及背板綁定bonding服務(wù)。
產(chǎn)品名稱(chēng)： | 高純銀靶(Silver -Ag)及銀合金管絲材 |
牌號(hào)規(guī)格： | Ag1、Ag2、AgCu10、AgCu30、AuNi5、Ag2AgCuTi3-0.1 |
用途： | 用于通訊工具的接插件、鉭電容器外殼、火箭點(diǎn)火裝置、超導(dǎo)復(fù)合材料套管等 |
該材料用于通訊工具的接插件、鉭電容器外殼、火箭點(diǎn)火裝置、超導(dǎo)復(fù)合材料套管等。 |
產(chǎn) 品 詳 情
隨著磁控濺射鍍膜沉積靶材在磁記錄介質(zhì)、電子半導(dǎo)體、薄膜太陽(yáng)能及平面顯示等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，我們加大在稀貴金屬靶材研發(fā)和制備方面的投入力度，通過(guò)原料控制、真空感應(yīng)熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結(jié)、熱等靜壓、放電等離子體燒結(jié)等不同工藝, 并采用嚴(yán)格的質(zhì)量控制過(guò)程，我們能夠制備多種靶材并能一直保持著批量供貨。
序 號(hào) | 合金牌號(hào) | 熔 點(diǎn)℃ | 密 度g/cm3 | 電 阻 率μΩ.cm | 維氏硬度（不小于） |
1 | Ag1、Ag2 | 961 | 10.5 | 1.6 | 85 |
2 | AgCu10 | 779 | 10.3 | 2.0 | 140 |
3 | AgCu12.5 | 779 | 10.2 | 2.0 | 140 |
4 | AgCuNiAl20-2-1 | 763 | 10.0 | 3.0 | 160 |
銀濺射靶材 (Silver -Ag)
規(guī)格尺寸：
形狀 | 圓形、方形 |
尺寸 | 按客戶(hù)要求定制加工 |
厚度 | 按客戶(hù)要求定制 |
純度 | ≥4N |
注：具體尺寸請(qǐng)聯(lián)系銷(xiāo)售。
相關(guān)搜索：
靶材的作用 銀靶 真空鍍膜銀靶材 鎳鐵合金靶材 靶材概念股龍頭 濺射靶材是什么
靶材上市公司 氧化銦鈰靶材 靶材干什么用的 銀靶材用途鈦靶材 金靶材 銀壺多少錢(qián)一個(gè)鋁釹合金靶材 貴金屬靶材 銀鈀合金靶材 銀壺價(jià)格多少錢(qián)一克 純銀999 銀靶材回收
銀Silver (Ag)
前言：
磁控濺射高純銀（Ag）鍍膜靶材，作為現(xiàn)代工業(yè)材料技術(shù)中的佼佼者，憑借其獨(dú)特的特性與廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)，在半導(dǎo)體、光電子、醫(yī)療器械等多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出了非凡的潛力與價(jià)值。
銀靶（Ag）規(guī)格：圓靶、板靶等，純度： 99.9999%；密度： 10.4970g/cm3；熔點(diǎn)： 961℃
PRECIOUS metaLS 稀貴金屬材料、電子束蒸發(fā)顆粒 | |
Gold (Au) | Palladium (Pd) |
Silver (Ag) | Platinum (Pt) |
Gold Arsenic (AuAs) | Rhenium (Re) |
Gold Tin (AuSn) | Rhodium (Rh) |
Iridium (Ir) | Ruthenium (Ru) |
Osmium (Os) | |
我司深耕靶材領(lǐng)域十年，專(zhuān)注研發(fā)與生產(chǎn)，鑄就行業(yè)精品。所生產(chǎn)稀貴金屬材料如下：
一：特性概述
磁控濺射高純銀靶材，其核心特性在于其高純度與卓越的物理性能。這類(lèi)靶材通常銀含量，確保了鍍膜過(guò)程中極低的雜質(zhì)引入，從而顯著提升了薄膜的電學(xué)、光學(xué)性能及穩(wěn)定性。高純銀靶材具有良好的導(dǎo)熱導(dǎo)電性，能有效促進(jìn)鍍膜過(guò)程中的熱量散失與電荷傳輸，確保薄膜的均勻沉積與高質(zhì)量形成。此外，其優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性使得鍍膜層在多種環(huán)境下均能保持穩(wěn)定的性能，延長(zhǎng)了產(chǎn)品的使用壽命。銀靶（Ag）規(guī)格：圓靶、板靶等，純度： 99.999%；密度： 10.4970g/cm3；熔點(diǎn)： 961℃
二：行業(yè)應(yīng)用優(yōu)勢(shì)
1、半導(dǎo)體行業(yè)：在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，磁控濺射高純銀靶材被廣泛應(yīng)用于沉積導(dǎo)電層、反射層等關(guān)鍵薄膜。其高純度特性有效降低了雜質(zhì)對(duì)半導(dǎo)體器件性能的影響，提升了器件的良率與可靠性。同時(shí)，磁控濺射技術(shù)的高效性與均勻性，確保了導(dǎo)電層與反射層的高質(zhì)量制備，對(duì)于提升半導(dǎo)體器件的整體性能具有重要意義。
2、光電子行業(yè)：在光電子器件的制造中，磁控濺射高純銀靶材同樣發(fā)揮著重要作用。通過(guò)精確控制鍍膜過(guò)程，可以制備出具有優(yōu)異光學(xué)性能的薄膜，如反射膜、增透膜等，有效提升光電設(shè)備的效率與輸出質(zhì)量。特別是在光學(xué)傳感器、LED照明等領(lǐng)域，高純銀靶材的應(yīng)用使得產(chǎn)品性能更加優(yōu)越，滿(mǎn)足了市場(chǎng)對(duì)高品質(zhì)光電產(chǎn)品的需求。
3、醫(yī)療器械行業(yè)：隨著醫(yī)療技術(shù)的不斷進(jìn)步，磁控濺射高純銀靶材在醫(yī)療器械領(lǐng)域的應(yīng)用也日益廣泛。通過(guò)濺射技術(shù)，可以在醫(yī)療器械表面形成具有抗菌、抗炎性能的銀基復(fù)合薄膜，顯著提升醫(yī)療器械的安全性與耐用性。同時(shí)，高純銀靶材的引入還有助于減少患者使用過(guò)程中的感染風(fēng)險(xiǎn)，為醫(yī)療安全保駕護(hù)航。
綜上所述，磁控濺射高純銀（Ag）鍍膜靶材以其獨(dú)特的特性與廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)，在現(xiàn)代工業(yè)中占據(jù)了舉足輕重的地位。未來(lái)，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步與應(yīng)用的持續(xù)拓展，磁控濺射高純銀靶材有望在更多領(lǐng)域展現(xiàn)其卓越的性能與價(jià)值，為人類(lèi)社會(huì)的發(fā)展貢獻(xiàn)更大的力量。
